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          科民介紹

          COMPANY  PROFILE

          嘉興科民電子設備技術有限公司

          企業優勢

          公司介紹

          海外微電子設備制造團隊與中科院微電子所8室專家共同成立
          國內最大的原子層沉積(ALD)設備制造商
          4000余平方米的研發及生產基地
          30多人的研發及制造團隊。

           

          生產場地 

          符合半導體行業6S管理規定的生產場地,標準化生產
          嚴格的設備工藝驗證,保證每臺設備的質量

           

          企業優勢

          發展與規劃

          未來

          未來

          繼續
          2019年

          2019年

          單爐5000片2寸片設備通過產線驗證
          2018年

          2018年

          2017年

          2017年

          進入某行業龍頭企業,獲多臺訂單
          2016年

          2016年

          國內首家成功進入產業化市場的ALD設備廠商
          2013年

          2013年

          助力復旦成功研制半浮柵晶體管SFGT
          2012年

          2012年

          2010年

          2010年

          4月 公司成立
          上一頁
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          我們的優勢

          產品優勢

          廠區獨立的加工檢測能力

           

          生產場地具有進口晶圓測溫儀(用于晶圓表面實際溫度的測量和校準)、進口真空檢漏儀(用于保障整個沉積系統的真空漏率達標)、swgaelok原裝進口管路連接器(保障前驅體源輸送的可靠性)

           

          產品優勢

          產線驗證

           

          從2015年至2019年,公司設備為唯一在國內多家大型半導體/MEMS生產企業通過產線驗證的ALD機型,穩定工作3年以上

           

          產品優勢

          研發支持

           

          中科院微電子所具有千級凈化級別700㎡、百級凈化級別50㎡,并能方便的進行薄膜性能測試

           

          ALD技術

          這是描述信息

          1970s-第一階段

          ALD的發明
          Suntola提出ALD概念并逐漸完善

           

          1980s-1990s-第二階段

          ALD的孕育與積累
          ALD開始應用于TFT等領域獨特的自限制沉積模式優勢初顯

           

          2000s~至今-第三階段

          ALD大規模應用與爆發
          ALD開始應用于intel處理器的high-k層并開始大規模應用

          應用領域不斷拓展

           

          能源領域:太陽能電池背面鈍化、光伏活性層、防腐鍍膜、超親水/疏水涂層、防塵涂層、鋰離子電池材料增效
          微電子和微機電領域:存儲器件活性層、OLED封裝、納米結構器件、微部件的防腐蝕和抗磨損
          光學應用:反射涂層和増透涂層,透鏡保護、光柵器件、曲面鍍膜
          其他:膜結構和多孔結構催化活性層、高效貴金屬活性層

           

          這是描述信息

           

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