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          科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

          科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

          • 分類:公司新聞
          • 發布時間:2019-01-10
          • 訪問量:0

          【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果??泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點,成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

          科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

          【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果??泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點,成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

          • 分類:公司新聞
          • 作者:
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          • 發布時間:2019-01-10
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          科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

            金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果??泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點,成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

           

          SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備

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